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MProbe Vis 微点薄膜厚度光学测量仪
2014-07-24 09:57:07   来源: 瞬渺市场部   评论:0 点击:

MProbe Vis微点薄膜厚度光学测量仪MProbe让你成为测量专家 !大部分半透明的或具有轻微吸收性的薄膜能够被快速、可靠的测量:氧化物、氮化物、感光耐蚀膜、聚合物、半导体(Si, aSi,polySi)、硬涂层(SiC, DLC...

MProbe Vis
微点薄膜厚度光学测量仪
MProbe让你成为测量专家 !

大部分半透明的或具有轻微吸收性的薄膜能够被快速、可靠的测量:氧化物、氮化物、感光耐蚀膜、聚合物、半导体(Si, aSi,polySi)、硬涂层(SiC, DLC), 聚合物涂料 (Paralene,PMMA,聚酰胺),薄金属薄膜等
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MProbe系统

 

精度

 0.01nm或0.01%

精确度

 0.2% 或1nm

稳定性

 0.02nm或0.03%

光斑尺寸

 标准为3mm, 低至3μm

样本大小

 从1 mm 

厚度范围: 15 nm-50 um
波长范围: 400nm -1100 nm

LCD, FPD应用: ITO, 细胞间隙,聚酰胺。光学涂层: 介质滤波器,硬涂层,防反射涂层半导体和电解质: 氧化物,氮化物, OLED堆
实时测量和分析。各种多层次的, 薄的,厚的,独立和不均匀层。

丰富的材料库 (500多种材料) – 新材料容易增添。Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA 等
使用灵活: 可联网在操作台桌面或现场进行研究与开发。
                 用TCP或Modbus接口能容易的和外部系统连接。

测量参数:厚度、光学常数、表面粗糙度。
界面友好强大: 测量和分析设置简单。
实用的工具:仿真和灵敏度分析,背景和缩放修正,连接层和材料,多样品测量,动态测量和生产批量处理。

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测量300 nm 硅氧化膜      测量与模型数据拟合

主要参数
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从硅晶片原反射比。信号最大(16位)。
积分时间:10ms

 

 光谱范围 (nm)

 400-1100

 分光仪/检测器

 分光仪F4,Si CCD 3600像素,16位ADC,
 范围360-1100 nm

光谱分辨率

 <2 nm (标准)
 <1 nm (选项)

 光源

 卤钨灯(Xe填充)5W, CT 2800o
 使用时间: 10000 hrs

 反射比探测

 光导纤维(7纤维束),
 400μm纤维芯

 精度

 <0.01 nm或0.01%

 准确度

 <1nm或0.2%

 重量

 4 kg

 尺寸

 8”x 10” x 4” (WxDxH)

功率

 100-250VAC, 50/60 Hz
 20W


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测量500nm AlN. 测量参数:厚度和表面粗糙度。 换算系数应用到正确的距离以改变配置。

 

选配硬件

 -FLVis

Vis消色差聚焦透镜. WD:35mm. 光板尺寸: <0.5mm.

 -LP500

长通滤片, 波长范围在500nm以下. 
 用于测量光阻材料。(其他滤器可用)

 -FDHolder

样品架朝下.测量透明和柔韧的样本

 -TO

选配透射率

 -TO Switch

2通道开关,结合测量反射率和透光率.

 - 2oW

更改为20W (CT 3100o, 使用时间2000hrs) 钨卤素灯.

 -HR

升级光谱仪分辨率<1nm

 - TR

在输入/输出触发5V TTL。1外部(输入)
触发器以开始测量,6输出触发器

 

软件选项

 -MOD

 基于Modbus标准远程控制(TCP)

 - CM

 不同测量与指定数量的测量和/或延迟

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